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產(chǎn)品詳細(xì)頁
紫外差分氣體測量光學(xué)模塊2

紫外差分氣體測量光學(xué)模塊2

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2023-12-20
  • 產(chǎn)品介紹:紫外差分氣體測量光學(xué)模塊2,采用紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù),同時測量SO2、NOx等有害氣體,具有測量精度高、測量速度快、多組分同時檢測、抗干擾能力強(qiáng)、檢測下限低等諸多優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于固定污染源排放監(jiān)測、移動污染源排放監(jiān)測、工業(yè)氣體分析、過程測量技術(shù)等領(lǐng)域。
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產(chǎn)品介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保

紫外差分氣體測量光學(xué)模塊2


模塊介紹:

紫外差分氣體測量光學(xué)模塊2,采用紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù),同時測量SO2、NOx等有害氣體,具有測量精度高、測量速度快、多組分同時檢測、抗干擾能力強(qiáng)、檢測下限低等諸多優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于固定污染源排放監(jiān)測、移動污染源排放監(jiān)測、工業(yè)氣體分析、過程測量技術(shù)等領(lǐng)域。

 

原理:

當(dāng)光源發(fā)出的紫外-可見連續(xù)光譜經(jīng)過含有被測污染氣體的樣氣時,特定波長光能被樣氣中的污染氣體吸收,光的吸收(吸光度)與污染氣體濃度呈正比,采用光譜分析和化學(xué)計量學(xué)方法建立起實(shí)驗(yàn)室標(biāo)定吸光度和污染氣體濃度之間的經(jīng)驗(yàn)曲線,根據(jù)現(xiàn)場被測樣氣的吸光度實(shí)時計算樣氣中污染氣體濃度。


檢測原理圖


DOAS法原理圖

產(chǎn)品采用原創(chuàng)設(shè)計的新型多次反射型長光程氣室,入射光經(jīng)氣室內(nèi)凹面反射鏡多次折返后終會聚出光口,由于氣室中的光束是通過兩端固定的反射鏡來反射,氣室壁不參與測量光束的反射,可避免傳統(tǒng)內(nèi)壁反射氣室隨老化而導(dǎo)致信號漂移、靈敏度損失等現(xiàn)象,保證氣室長期使用中的光程穩(wěn)定。采用多次反射技術(shù),可以同時實(shí)現(xiàn)小體積和長光程,并可根據(jù)應(yīng)用需求定制光程。


原創(chuàng)多次反射長光程氣室

特點(diǎn):

Ø采用紫外差分吸收光譜法,實(shí)時檢測SO2、NO、NO2等氣體濃度,不受水汽、粉塵干擾

Ø采用自主開發(fā)深紫外光譜儀,優(yōu)化紫外光譜響應(yīng)性能

Ø采用低功率脈沖氙燈光源,功耗低、壽命長、預(yù)熱時間短

Ø氣室采用恒溫控制,保證檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性

Ø直接檢測NO2,無需轉(zhuǎn)化爐

Ø檢出限<1mg/m3,量程可定制

Ø機(jī)械結(jié)構(gòu)可按需求定制。

 

應(yīng)用:

Ø環(huán)境空氣分析

Ø室內(nèi)空氣質(zhì)量監(jiān)測

Ø污染源廢氣分析

Ø移動污染源排氣分析

Ø工業(yè)氣體分析

Ø過程測量技術(shù)

Ø生物氣研究

Ø過程控制

Ø建筑物通風(fēng)系統(tǒng)管理

Ø大氣監(jiān)測和氣象研究

 

應(yīng)用儀器:

3023型 紫外差分煙氣綜合分析儀

LYD-301汽車排放氣體測試儀

LYG-801汽車排放氣體測試儀

 

技術(shù)參數(shù):

技術(shù)指標(biāo)

技術(shù)參數(shù)

測量氣體

SO2

NO

NO2

量程

0-100mg/m3  

0-100mg/m3  

0-100mg/m3  

0-285mg/m3

0-134mg/m3

0-205mg/m3

可依照用戶需求定制

示值誤差

≤±2% FS

檢出限

≤1mg/m3

重復(fù)性

≤1% FS

零點(diǎn)漂移

≤±2% FS /24h

量程漂移

≤±2% FS /24h

校準(zhǔn)

提供零點(diǎn)校準(zhǔn)、量程校準(zhǔn)

響應(yīng)時間

T90 < 30 s

工作溫度

-20-45℃

相對濕度

≤95%RH

通信接口

RS232/RS485

輸出信號

濃度值/原始AD值

供電

DC12V

功率

<110W(上電預(yù)熱10~20分鐘);額定功率<18W

注:表中濃度單位為標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(溫度為273.15K,壓力為101.325kPa)下的質(zhì)量濃度。

 

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